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DH-500JJC型多靶磁控濺射鍍膜機DH500JJC生產廠家

該鍍膜機主要用于科研實驗，可制備納米級和微米級的單層及多層功能膜-各種硬質膜、光學膜、金屬膜、鐵磁薄膜、半導體膜、介質膜和氧化物薄膜等多種薄膜。

　　該鍍膜機為前開門式設計，功能強、鍍膜質量穩(wěn)定、重復性好、操作簡便。真空室材料均采用優(yōu)良材質SUS304 不銹鋼材料制造，工藝規(guī)范、精致，保證了材料的成膜純度。

　　采用分子泵+直聯(lián)機械泵機組，具有抽速快、無油、操作方便快捷、易于維護的特點。

　　◆ 鍍膜方式：可實現多靶共濺模式；

　　◆ 磁控靶：圓柱/平面靶；

　　◆ 進氣系統(tǒng)：三路質量流量計；

　　◆ 鍍膜室體積：500mm*500mm*600mm；

　　◆ 極限真空度：5X10-5 Pa，恢復真空：從大氣抽至6.7X10-4 Pa （40分鐘）；

　　◆ 真空抽氣系統(tǒng)：機械泵與分子泵組成；

　　◆ 真空測量系統(tǒng)：數顯復合真空計；

　　◆ 工作電源：直流電源500W；射頻電源500W（13.56MHz）；加熱控溫電源；

　　◆ 工件烘烤溫度：室溫～800℃可控可調(PID控溫)；

　　◆ 選配件：石英晶振測厚儀、冷卻水機組等；

　　◆ 供電電源：三相AC380V，50Hz。

　　◆ 特殊規(guī)格可定制。

DH-500JJC型多靶磁控濺射鍍膜機DH500JJC生產廠家

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